当前位置:首页 > 速递 > 文章内容

英飞凌推出下一代碳化硅技术CoolSiC?MOSFETG2推动脱碳的高性

来源:盖世汽车时间:2024-03-07 14:55阅读量:12909   

盖世汽车讯 3月5日,英飞凌科技股份公司推出下一代碳化硅(SiC)MOSFET 沟槽技术,开启电力系统和能源转换的新篇章。与上一代产品相比,新型英飞凌CoolSiC? MOSFET 650 V和1200 V第2代将MOSFET的关键性能指标(例如存储能量和电荷)提高了20%,且不影响质量和可靠性水平,从而提高了整体能源效率,并进一步推动脱碳进程。

????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????

免责声明:该文章系本站转载,旨在为读者提供更多信息资讯。所涉内容不构成投资、消费建议,仅供读者参考。

最热文章

精选图集

车圈网 | 关于我们 | 网站地图 | RSS订阅

本站部分信息来源于网络,如有侵权请与我们联系。本站原创内容转载请注明出处。

Copyright © 车圈网 car.xqcar.cn All Rights Reserved. 皖ICP备2023005497号 .

邮箱:jokerdeyouxiang@sina.com